Dutch- Stage bij het Nederlandse Consulaat-Generaal te Shanghai

Het Nederlands Consulaat-Generaal te Shanghai (Innovatie Attaché Netwerk) is op zoek naar twee stagiaires voor een periode van 5-6 maanden, beginnend in September 2017. Volg je een universitaire opleiding en ben je op zoek naar een stage waarmee je resultaten kunt bereiken? Zoek je een stage waarbij je tegelijkertijd je horizon én je netwerk kunt verbreden?

Achtergrond

Het Innovatie Attaché (IA) Netwerk (in het Engels; Holland Innovation Network) zet zich in voor de versterking van de Nederlandse concurrentiekracht op de langere termijn d.m.v. wetenschappelijke en technologische samenwerking. Het IA-netwerk in China vertegenwoordigt de innovatieve sectoren van Nederland en informeert Nederland over trends, ontwikkelingen en kansen in China. Er wordt veel samengewerkt met bedrijven, universiteiten, kennisinstituten en overheidsinstanties vanuit onze vestigingen in Beijing, Shanghai en Guangzhou.

Werkomgeving

Het Nederlandse Consulaat-Generaal in Shanghai behartigt de belangen van Nederlanders en Nederlandse bedrijven/organisaties uit verschillende sectoren (hightech, chemie, energie, agricultuur etc.) in Shanghai en omliggende provincies. Door de toegenomen relevantie van China in de mondiale kenniseconomie is wetenschap en technologie een belangrijk deel van de activiteiten van het Consulaat-Generaal.

Stageomschrijving

In samenwerking met de Shanghai Additive Manufacturing Association (SAMA) zal in oktober 2017 een 3D-printing conferentie worden georganiseerd. Nederland zal een prominente rol spelen als “Guest Country of Honor”. Daarnaast zal er een automotive missie worden georganiseerd met een focus op New Energy Vehicles (NEV) en Intelligent Connected Vehicles (ICV). Voor beide sectoren zoeken we stagiaires die kunnen helpen bij de organisatie en promotie van gerelateerde activiteiten.

Daarnaast zal de stagiair zich ook bezighouden met de dagelijkse werkzaamheden van het IA-netwerk; het in kaart brengen van de relevante netwerken en kansen op het gebied van R&D, in diverse sectoren gerelateerd aan innovatie, technologie en/of wetenschap.

Profiel van de stagiair(e)

Van de stagiair(e) wordt flexibiliteit en improvisatietalent verwacht. Je dient na een korte introductieperiode in staat te zijn redelijk zelfstandig te functioneren. Idealiter heb je een technische opleiding en affiniteit met China. Je hebt een ondernemende geest en legt gemakkelijk contacten. Je bent je bewust van de openbare rol van een Consulaat-Generaal.
Verder:

  • Ben je de gehele duur van de stage beschikbaar.
  • Bezit je een uitstekende beheersing van zowel de Nederlandse als Engelse taal. Kennis van het Mandarijn is een pre.
  • Affiniteit met 3D-printing en/of automotive is een pre.
  • Je bezit de Nederlandse nationaliteit.
  • Je volgt een universitaire opleiding bij een erkende onderwijsinstelling (nationaal of internationaal).
  • Je staat gedurende de gehele duur van de stage ingeschreven.

Wat bieden wij

Het Nederlandse Consulaat-Generaal in Shanghai biedt een uitdagende, leerzame en veelzijdige stage, waarbij je snel eigen verantwoordelijkheden kunt verwachten en een groot netwerk op kunt bouwen. Huidige stagiaires: “Geen dag is hetzelfde op de innovatie afdeling. Je doet veel kennis op van verschillende sectoren, legt connecties tussen Nederland en China en leert wat voor een belangrijke rol de overheid hierbij speelt in China”.

Voorwaarden en vergoedingen

Algemene voorwaarden en vergoedingen kun je vinden op deze site.
Het betreft een voltijdaanstelling (40 uur per week) voor een periode van vijf tot zes maanden.

Meer weten en/of solliciteren

Stuur je CV en een motivatiebrief naar shanghai@hollandinnovation.cn. Een aantal kandidaten zal worden uitgenodigd voor een Skypegesprek.

Meer informatie is te vinden op onze website: www.hollandinnovation.cn.
Mocht je vragen hebben dan kan je Sam Linsen, Bart van Hezewijk en/of Anouk van der Steen bereiken via shanghai@hollandinnovation.cn.

De deadline van reageren is 16 juni 2017.

 

0 replies

Leave a Reply

Want to join the discussion?
Feel free to contribute!

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *